Hoy, Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. envió un objetivo tantalum. El objetivo de Tantalum es de gran tamaño, con una tecnología de producción exquisita y una superficie lisa y brillante. El objetivo tiene una gran planitud y una superficie muy plana. La limpieza de la superficie es alta y no hay aceite, polvo y óxido en la superficie.
Yusheng Metal puede usar una variedad de procesos para producir objetivos de acuerdo con los requisitos del cliente.
Método de fusión de vacío:
Proceso: derretir el metal tántalo en un entorno de vacío.
Ventajas: evite la oxidación e impurezas para garantizar la alta pureza del objetivo.
Tecnología de presión isostática caliente:
Proceso: use alta temperatura y alta presión para densificar el polvo de tantón en un objetivo.
Ventajas: producir una estructura objetivo de alta densidad y uniforme.
Método de fusión del haz de electrones:
Características: Use el haz de electrones como fuente de calor para derretir el metal tantalum.
Ventajas: el proceso de fusión se puede controlar con precisión para mejorar la uniformidad y la pureza del objetivo.
Tecnología de recubrimiento de giro de plasma:
Características: Deposite el material tantalum en un sustrato giratorio utilizando tecnología de plasma.
Ventajas: capaz de producir objetivos con microestructuras específicas para aplicaciones especiales.
