La gente mira constantemente hacia abajo, lo que hace que los teléfonos móviles sean el artículo más necesario para la población en general. Las pantallas de los teléfonos móviles también son cada vez más de gama alta, con diseños de pantalla completa, diseños de marco estrecho y un proceso esencial necesario para crear paneles LCD. ¿Lo reconoces? — Recubrimiento, que implica la pulverización catódica de molibdeno metálico desde el objetivo de molibdeno sobre el cristal líquido utilizando la técnica de pulverización catódica con magnetrón. Se le presentará completamente en el editor que sigue.
La pulverización catódica tiene dos características que la convierten en una técnica de vanguardia para la preparación de materiales de película delgada: "alta velocidad" y "baja temperatura". Bombardea la superficie sólida con iones de alta velocidad generados por la fuente de iones e intercambia energía cinética con los átomos allí, lo que hace que los átomos de la superficie sólida huyan del objetivo y se depositen en la superficie del sustrato para formar una película de nanómetros (o micras). . El material bombardeado es una sustancia depositada mediante la técnica de pulverización catódica y se denomina objetivo de pulverización catódica.
Los objetivos de pulverización catódica de molibdeno se utilizan principalmente en la industria electrónica para materiales de barrera de semiconductores, electrodos de células solares de película delgada y pantallas planas.
El alto punto de fusión, la alta conductividad, la baja impedancia específica, la resistencia superior a la corrosión y el excelente desempeño ambiental del molibdeno sirven como base para estos.
En el pasado, las pantallas planas solían estar cableadas con cromo, pero a medida que aumenta su tamaño y precisión, se hace cada vez más necesario utilizar materiales con una impedancia específica más baja. La protección del medio ambiente es otra preocupación que debe tenerse en cuenta. El molibdeno ha sido elegido como uno de los materiales para el objetivo de pulverización catódica de la pantalla plana porque su impedancia específica y tensión de película son solo la mitad de las del cromo y no tiene problemas de contaminación ambiental.
Además, los componentes LCD contienen molibdeno, que puede mejorar significativamente el brillo, el contraste, el color y la vida útil de las pantallas de cristal líquido. El campo TFT-LCD es una de las aplicaciones comerciales clave para los objetivos de pulverización catódica de molibdeno en la industria de pantallas planas.
Según estudios de mercado, el desarrollo de LCD alcanzará su punto máximo en los próximos años, con una tasa de crecimiento anual promedio de aproximadamente el 30 por ciento.
Con el avance de LCD, la necesidad de objetivos de pulverización catódica de LCD también ha aumentado rápidamente, a una tasa de aproximadamente el 20 por ciento cada año.
Con el crecimiento del nuevo sector energético, los objetivos de pulverización catódica de molibdeno se utilizan cada vez más en células solares fotovoltaicas de película delgada, además del negocio de pantallas planas.
La capa de electrodos de las baterías de película delgada CIGS (cobre, indio, galio, selenio) se forma normalmente mediante pulverización catódica, y el objetivo de pulverización catódica de molibdeno se emplea para este propósito.
Mo está situado en la base de la celda solar entre ellos. Como contacto posterior de la celda solar, es crucial para la formación, el desarrollo y la forma de los cristales de película delgada CIGS.
