Campos de aplicación de materiales objetivo de tantalio.

Utilizado principalmente en la deposición física de vapor y otros procesos, durante el proceso de pulverización catódica, los átomos en la superficie del objetivo de tantalio se bombardean y se depositan en forma de una película delgada sobre el sustrato para obtener el material de película delgada deseado.
El punto de fusión del tantalio es tan alto como 2996 grados, lo que permite que los objetivos de tantalio mantengan una buena estabilidad estructural en entornos de pulverización catódica de alta-temperatura y no se deforme ni se evapore fácilmente. La densidad suele ser superior a 16,6 g/cm³, lo que puede reducir los problemas de agrietamiento o deformación durante la pulverización catódica, al tiempo que reduce las salpicaduras de partículas y mejora la calidad de la película. A la temperatura de pulverización catódica, no es fácilmente volátil, lo que garantiza una pérdida mínima del material objetivo durante el proceso de pulverización catódica y proporciona átomos de tantalio estables para la deposición de películas delgadas.
Las propiedades químicas del tantalio son muy estables y apenas reacciona con otros ácidos excepto el ácido fluorhídrico y el ácido sulfúrico concentrado en caliente. También se puede utilizar durante mucho tiempo en entornos químicos hostiles y la película de tantalio fabricada con él también tiene buena resistencia a la corrosión. La superficie de tantalio es propensa a formar una película de pasivación de óxido de tantalio densa y estable, que puede prevenir eficazmente una mayor corrosión por oxidación y mejorar la vida útil del material.
Campo de aplicación
En la producción de circuitos integrados, los materiales objetivo de tantalio se utilizan para preparar capas de barrera de difusión, evitar que las interconexiones de cobre se difundan en sustratos de silicio, mejorar la confiabilidad y el rendimiento del dispositivo, y también se pueden usar como materiales de puerta o parte de puertas metálicas para MOSFET, así como electrodos de capacitores en dispositivos de memoria de alta-densidad, como DRAM.
En la producción de pantallas de cristal líquido (LCD) y diodos emisores de luz orgánicos (OLED), se utilizan objetivos de tantalio para preparar los electrodos y las capas de cableado de los transistores de película delgada (TFT). Su estabilidad y conductividad ayudan a mejorar la calidad de la visualización. Además, también se pueden utilizar como capas de encapsulación de película delgada en OLED para prolongar la vida útil del dispositivo.
Utilizadas para preparar películas ópticas, como filtros o revestimientos antirreflectantes, las películas de tantalio de alta-pureza tienen un índice de refracción uniforme y buena durabilidad, y son adecuadas para instrumentos ópticos de precisión, como lentes de cámaras y dispositivos láser. En entornos químicos, petroleros, marinos y otros, los recubrimientos anticorrosión preparados a partir de materiales de tantalio pueden proteger eficazmente equipos, tuberías y contenedores de la corrosión.