Feb 17, 2023 Dejar un mensaje

¿Cómo afecta el tratamiento térmico a la placa de tantalio de alta pureza?

Muchos amigos conocen el material metálico deplaca de tantalio de alta pureza. Tiene un alto punto de fusión, buena conductividad eléctrica y térmica, alta estabilidad química, excelente resistencia a altas temperaturas, buena procesabilidad y soldabilidad y baja temperatura de transición de plástico a quebradizo, excelentes propiedades mecánicas dinámicas y la formación de dieléctrico denso, estable y alto. película de óxido amorfo constante en la superficie después del tratamiento de oxidación, etc., y se usa ampliamente en electrónica, industria química, aeroespacial, armas militares, medicina y salud y otros campos.

High Purity Tantalum Plate Factory

La placa de tantalio de alta pureza se utiliza principalmente en la industria electrónica. Los capacitores de tantalio son de tamaño pequeño, gran capacidad, alta confiabilidad, larga vida útil, buena resistencia a la presión y funcionamiento estable. Se han utilizado ampliamente en comunicaciones, circuitos integrados de computadoras, sistemas de control electrónico automotriz y aparatos digitales. Gama de aplicaciones extremadamente amplia.

La carcasa de un capacitor de tantalio es una protuberancia de copa embutida. La placa de tantalio de alta pureza. producido en China es propenso a agrietarse, arrugarse, tener piel de naranja y desgarrarse cuando se embute profundamente y se extiende la cubierta de tantalio. El rendimiento es bajo y es difícil lograr un alto rendimiento. , Altas exigencias de fiabilidad. En la actualidad, no hay investigaciones sobre la influencia de la deformación en frío y el proceso de tratamiento térmico en las propiedades mecánicas de la placa de tantalio puro. Aquí, la formación de estiramiento y estampado de condensadores de tantalio se utiliza como fondo de aplicación. Al controlar el proceso de tratamiento térmico, se estudian las propiedades mecánicas del tantalio y sus propiedades mecánicas de deformación por tracción para proporcionar una base teórica para formular el proceso de estiramiento del tantalio.

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