Creo que todo el mundo tiene algún conocimiento sobre los objetivos del recubrimiento. Pasa por el sistema de revestimientos. Los objetivos de revestimiento duro ahora son algo que entendemos. La fase final la resume el editor para todos.
El diseño de la composición del objetivo, la transformación de la estructura cristalina del objetivo, la preparación del objetivo, la mejora de procesos y la optimización del comportamiento de pulverización catódica del objetivo son las cuatro áreas clave de interés actuales para la investigación sobre objetivos de recubrimiento para recubrimientos duros. Hoy, nos concentraremos en la optimización del comportamiento de pulverización catódica del objetivo. la etapa final del proceso de recubrimiento duro.
El empleo del objetivo en el proceso de recubrimiento debe ser el único foco de la investigación del objetivo. El objetivo está situado en la cámara de vacío durante todo el proceso de preparación del recubrimiento con un estado de plasma muy complejo, lo que provoca que el metal del objetivo se erosione. El plasma tiene un impacto en la trayectoria del átomo. Para mantener el objetivo en un estado estable y en buen estado durante la construcción, es crucial optimizar el proceso de recubrimiento. La tasa de erosión del objetivo y la pérdida de átomos de pulverización durante el viaje del átomo de pulverización. al sustrato durante el proceso de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón del objetivo de aleación.
La densidad de la corriente iónica y el objetivo de la explosión tienen los mayores efectos sobre el rendimiento de pulverización del objetivo. La pérdida de ángulo y la pérdida por dispersión son los dos tipos principales de energía iónica, la pérdida de átomos por pulverización catódica. La densidad y la energía de las partículas que atacan al objetivo se pueden cambiar alterando la corriente del objetivo. El envenenamiento del objetivo se puede hacer más efectivo ajustando la presión parcial de nitrógeno. La velocidad a la que los átomos metálicos se mueven hacia el sustrato se puede controlar eficientemente ajustando la polarización del sustrato. Para preparar un recubrimiento de mayor calidad, se puede hacer que el material objetivo se adapte mejor al entorno de la cámara de vacío de recubrimiento regulando los parámetros del proceso.
Podemos beneficiarnos del hecho de que el rápido crecimiento de la industria electrónica ha provocado avances significativos en varios negocios adyacentes. El avance de la ciencia y la tecnología está siendo impulsado por los tiempos. Los objetivos con recubrimiento duro son, junto con nosotros, uno de los grandes ganadores.
