99,99 por ciento de óxido de tantalio

99,99 por ciento de óxido de tantalio

Características del óxido de tantalio: El producto tiene alta pureza, buena plasticidad, buena maquinabilidad y es fácil de procesar.
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Introducción del producto

Propiedades físicas y químicas del 99,99 % de óxido de tantalio


Densidad

8,2 g/mL a 25 grados (lit.)

Punto de fusion

1872 grado

Pureza

99,99 por ciento

Fórmula molecular

O5Ta2

Peso molecular

441.89300

PSA

77.51000

Especificación

5 μm o producido según los requisitos del cliente.

Apariencia

Blanco a blanco - polvo beige

Condiciones de almacenaje

Mantenga el receptáculo sellado, guárdelo en un lugar fresco y seco y asegure una buena ventilación o escape en la sala de trabajo.

Estabilidad

No se descompone si se usa y almacena de acuerdo con las especificaciones, no se conocen reacciones peligrosas, evite los óxidos. Insoluble en agua. Insoluble en casi todos los ácidos excepto en el ácido fluorhídrico. La fusión eutéctica con bisulfato de potasio, con hidróxidos de metales alcalinos o con carbonatos de metales alcalinos da tantalatos equivalentes a varios metales, respectivamente. Los tantalatos generalmente se hidrolizan fácilmente y se descomponen completamente por la acción de ácidos inorgánicos fuertes, lo que da como resultado un precipitado de tantalato coloidal blanco. Cuando el ácido tantalico está completamente deshidratado, se obtiene pentóxido de tantalio.


99.99 por ciento de óxido de tantalio especificaciones y empaque:

1, podemos procesar y pedir diferentes especificaciones según los requisitos de los usuarios.

2,Embalaje: caja de madera o según los requisitos del usuario, dividido en bolsas y barriles.


Aplicaciones de óxido de tantalio al 99,99 %:

Se utiliza principalmente para materiales revestidos, electro-óptica. La temperatura de evaporación es de 1920 grados bajo un vacío de 10-2 Pa. Puede calentarse con tantalio, botes de tungsteno y bobinas para la evaporación, o con crisoles de tungsteno para la evaporación, con buenos resultados con haz de electrones. calefacción. Las películas de óxido de tantalio tienen una zona transparente de 0,3 a 10 μm y un índice de refracción de n=2,25 (λ=0,4 μm) y n=2,1 (λ{{12 }}.55 μm, Ts=250 grados). Los recubrimientos de Ta2O5 se pueden usar como material de película de alto índice de refracción en recubrimientos de interferencia, y sus propiedades mecánicas son extremadamente fuertes y los álcalis fuertes no los corroen. También se puede utilizar como revestimiento protector, especialmente para aplicaciones en entornos de alta temperatura.

Las películas delgadas se pueden preparar aplicando varios métodos, como oxidación térmica, evaporación con haz de electrones, pulverización con CC, pulverización con CC con magnetrón reactivo, pulverización con RF, pulverización catódica reactiva, pulverización catódica con RF reactiva, pulverización catódica con haz de iones, recubrimiento iónico, precipitación asistida por iones y anódica. oxidación.


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