Objetivo de titanio

Descripción general de los objetivos de titanio (Ti)

Material objetivo de titanio, símbolo de elemento de titanio Ti, número atómico 22, densidad 4.454g/Cm3, propiedades físicas: punto de fusión 1668 grados, punto de ebullición 3262 grados, capacidad calorífica específica 0.52 (J / (Kg-K) , calor de evaporación 421 (KJ/Mol), calor de fusión 15.45 (KJ/Mol), conductividad eléctrica 0.0234 (106/Cm). Debido al alto costo del titanio de alta pureza, el área de aplicación es extremadamente limitado, se utiliza principalmente como materiales semiconductores y materiales absorbentes de gas en dispositivos de ultra alto vacío.El titanio de alta pureza absorbe gases, especialmente hidrógeno, CH4 y CO2, por lo que puede usarse ampliamente en alto vacío y ultra -sistemas de alto vacío. Cuando se utiliza la pulverización catódica de titanio de alta pureza para hacer la red de línea de LSI, VLSI y ULSI, estas partes integradas pueden hacerse extra livianas, delgadas, de tamaño pequeño y densas en línea. Los objetivos de titanio de alta pureza también pueden utilizarse como materiales metálicos de capa de barrera.

Producimos objetivos de titanio pulverizados de alta pureza, cuyo beneficio más importante es obtener películas con excelente conductividad eléctrica y minimización de partículas durante la deposición física de vapor. Métodos analíticos utilizados: 1. análisis de elementos metálicos utilizando GDMS o ICP-OES; 2. Análisis de elementos gaseosos mediante LECO.

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