Objetivos de óxido de niobio

Objetivos de óxido de niobio

El objetivo de óxido de niobio es un material importante para la preparación de vidrio AR (vidrio antirreflectante) y vidrio ITO (óxido de indio y estaño). Además, los objetivos de óxido de niobio también se utilizan ampliamente en células solares, vidrio óptico y pantallas táctiles de teléfonos móviles.
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Introducción del producto

En la actualidad, la preparación de objetivos de óxido de niobio adopta principalmente un proceso de sinterización por prensado en caliente, pero generalmente se preparan las deficiencias de poca compacidad y conductividad, lo que es difícil de cumplir con los requisitos de pulverización catódica de magnetrón de CC para materiales objetivo. Además, el proceso de sinterización por prensado en caliente tiene un largo tiempo de sinterización, un alto consumo de energía y un alto costo. En base a esto, es necesario proporcionar un blanco de óxido de niniobio con bajo consumo de energía, bajo costo, buena compacidad y conductividad, y método de preparación del mismo.


Se incluyen los siguientes pasos:

El polvo de pentóxido de niobio y el polvo de niobio se mezclaron uniformemente y se calcinaron a 600~800 grados durante 0,5~3 h en atmósfera de oxígeno o atmósfera de aire para obtener un polvo pretratado;


El polvo se sinteriza en un molde de grafito a 900~1200 grados bajo una atmósfera de gas protector durante 0,5~1 h para obtener un objetivo de óxido de niobio.


El método de preparación de los objetivos de óxido de niobio anteriores, después de que el polvo de pentóxido de niobio y el polvo de niobio se mezclen uniformemente, se lleva a cabo el tratamiento de calcinación oxidante y la superficie del polvo de niobio se oxida para formar una barrera de película de óxido activada, de modo que para dispersar el polvo de pentóxido de niobio, evitar el fenómeno de aglomeración causado por la sinterización local del polvo de pentóxido de niobio, y el polvo pretratado obtenido no está aglomerado, no se une, tiene buena fluidez y distribución de tamaño de partícula concentrada. Entre ellos, el polvo de pentóxido de niobio tiene un área de superficie específica alta y alta actividad, y su tamaño de partícula es pequeño, lo que a su vez reduce la temperatura de sinterización por prensado en caliente y reduce el tiempo de sinterización por prensado en caliente, reduciendo así el consumo de energía y costo de la sinterización por presión en caliente, acortando el ciclo de producción y mejorando efectivamente el grado de densificación del objetivo de óxido de niobio obtenido por la sinterización por presión en caliente.


La fórmula química del objetivo de óxido de niobio preparado mediante el método de preparación anterior es Nb2Ox, 4.0 Menor o igual a x Menor o igual a 4,9, el objetivo tiene una alta compacidad, baja porosidad y una superficie plana sin hoyos, y su densidad es tan alta como 4.57g/cm3. Su conductividad es alta y la resistividad es de 2×10-3~8×10-3Ω·cm. Entre ellos, la densidad relativa se refiere a la relación entre la densidad medida por el detector de densidad sólida del método de drenaje de Arquímedes y la densidad teórica, y la magnitud de la densidad relativa indica el grado de densificación del material, y cuanto mayor sea la densidad relativa, cuanto mayor sea el grado de densificación del material.

 

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